薄膜物理与技术 电子科技大学

内容简介:
随着现代科技飞速发展,电子元器件、平板显示、大规模集成电路、信息记录与存储、微机电系统、物联网探测与感知、新型绿色能源等领域不断创新,已经广泛而深入地影响到了每个人的生活。而这些都离不开薄膜技术的发展。掌握薄膜制备的物理机制及技术工艺,已经成为高新技术人才不可或缺的知识基础。
价格:
免费
课程介绍
第一讲 绪论 第一节 薄膜的定义 1.1
第一讲 绪论 第二节 薄膜的制备方法及应用 1.2
第二讲 真空 第一节 真空 2.1
第二讲 真空 第二节 稀薄气体的基本性质 2.2
第二讲 真空 第三节 真空的获得 2.3 2.3
第二讲 真空 第四节 真空的测量 2.4
第三讲 蒸发 第一节 蒸发的基本概念 3.1
第三讲 蒸发 第二节 蒸发的膜厚分布 3.2
第三讲 蒸发 第三节 蒸发方法简介 3.3
第四讲 溅射 第一节 溅射与等离子体 4.1
第四讲 溅射 第二节 溅射特性 4.2
第四讲 溅射 第三节 溅射过程 4.3
第四讲 溅射 第四节 射频溅射与磁控溅射 4.4
第五讲 化学气相沉积 第一节 CVD的化学反应类型 5.1
第五讲 化学气相沉积 第二节 CVD的反应法则 5.2
第五讲 化学气相沉积 第三节 CVD装置及类型 5.3
第六讲 溶液镀膜法 第一节 溶胶凝胶法和LB膜 6.1
第六讲 溶液镀膜法 第二节 阳极氧化、电镀、化学镀 6.2
第七讲 薄膜的生长及结构 第一节 薄膜的生长过程 7.1
第七讲 薄膜的生长及结构 第二节 薄膜成核理论 7.2
第七讲 薄膜的生长及结构 第三节 连续薄膜的形成、薄膜结构及缺陷 7.3
第八讲 薄膜的表征方法 第一节 薄膜厚度测试 8.1
第八讲 薄膜的表征方法 第二节 薄膜形貌及结构表征 8.2
第一讲 绪论 第一节 薄膜的定义 1.1
第一讲 绪论 第二节 薄膜的制备方法及应用 1.2
第二讲 真空 第一节 真空 2.1
第二讲 真空 第二节 稀薄气体的基本性质 2.2
第二讲 真空 第三节 真空的获得 2.3 2.3
第二讲 真空 第四节 真空的测量 2.4
第三讲 蒸发 第一节 蒸发的基本概念 3.1
第三讲 蒸发 第二节 蒸发的膜厚分布 3.2
第三讲 蒸发 第三节 蒸发方法简介 3.3
第四讲 溅射 第一节 溅射与等离子体 4.1
第四讲 溅射 第二节 溅射特性 4.2
第四讲 溅射 第三节 溅射过程 4.3
第四讲 溅射 第四节 射频溅射与磁控溅射 4.4
第五讲 化学气相沉积 第一节 CVD的化学反应类型 5.1
第五讲 化学气相沉积 第二节 CVD的反应法则 5.2
第五讲 化学气相沉积 第三节 CVD装置及类型 5.3
第六讲 溶液镀膜法 第一节 溶胶凝胶法和LB膜 6.1
第六讲 溶液镀膜法 第二节 阳极氧化、电镀、化学镀 6.2
第七讲 薄膜的生长及结构 第一节 薄膜的生长过程 7.1
第七讲 薄膜的生长及结构 第二节 薄膜成核理论 7.2
第七讲 薄膜的生长及结构 第三节 连续薄膜的形成、薄膜结构及缺陷 7.3
第八讲 薄膜的表征方法 第一节 薄膜厚度测试 8.1
第八讲 薄膜的表征方法 第二节 薄膜形貌及结构表征 8.2
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